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濺射靶材作為一種用于制備薄膜的材料，在半導體工業中扮演著關鍵角色。 靶材通過濺射工藝在半導體晶片表面沉積薄膜，實現對半導體器件導電性 能與電子遷移性能的精準控制。
金屬、合金或氧化物等材料通過濺射工藝沉積在顯示屏的基底上，形 成薄膜，從而調控光學和電學性質。這種定向控制使得顯示屏具備更 好的對比度、顏色鮮艷度以及更快的響應速度。
高純度金屬、合金或化合物材料通過濺射工藝沉積到太陽能電池的表面形成薄膜。優良的靶材可以調整光吸收、電子傳輸和光電轉換效率，從而提高太陽能電池的整體性能。
濺射靶材在玻璃工業中被廣泛應用，通過濺射工藝，將金屬、合金、ITO或其他相變材料以高能量沉積到玻璃表面，創造出導電、反射性或防反射性、電致變色涂層，可提高玻璃隔熱性能，降低能源消耗。
在半導體制造中，高純金屬用于制備晶體管和集成電路，確保電子傳導的高效性。電子工業中，高純金屬是制造電子元器件和導電線材的優選材料。此外，高純金屬在光學領域廣泛應用
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